膜层结构及其制备方法、壳体机构和电子设备与流程

文档序号:18794362发布日期:2019-09-29 19:22
膜层结构及其制备方法、壳体机构和电子设备与流程

本发明涉及电子设备领域,特别是涉及一种膜层结构及其制备方法、壳体机构和电子设备。



背景技术:

随着电子设备产品多样性的发展,用户对电子设备的外观提出了更高的要求。如何提升电子设备的外观效果是业界普遍关注的研究方向。外壳的外观效果直接影响电子设备的外观效果。一些研究通过改变外壳的材质以提升外壳的外观效果,例如采用金属材质或者陶瓷材质。然而,此种方式得到外壳的样式单一。



技术实现要素:

基于此,有必要提供一种样式丰富的膜层结构。

此外,还提供一种膜层结构的制备方法、壳体机构和电子设备。

一种膜层结构,其特征在于,包括:

基材;及

色带单元,包括非黑色层和黑色层,所述非黑色层设置在所述基材的一侧,所述黑色层设置在所述非黑色层远离所述基材的一侧,所述色带单元具有渐变区,所述黑色层在所述渐变区处的黑色的深度渐变。

上述膜层结构包括基材和色带单元,色带单元包括非黑色层和黑色层,非黑色层设置在基材上,使得膜层结构具有非黑色的颜色效果,黑色层设置在非黑色层远离基材的一侧,色带单元具有渐变区,黑色层在渐变区处的黑色的深度渐变,使得膜层结构在渐变区处呈现颜色渐变的效果,样式丰富。

在其中一个实施例中,所述黑色层在所述渐变区处的黑色的深度由浅至深线性渐变。

在其中一个实施例中,所述黑色层在所述渐变区处的黑色的深度自所述渐变区的中部向边缘的方向逐渐升高。

在其中一个实施例中,所述色带单元还具有颜色区,所述黑色层在所述颜色区处的黑色的深度恒定,所述渐变区围绕所述颜色区设置。

在其中一个实施例中,所述黑色层在所述渐变区处的黑色的深度自所述渐变区远离所述颜色区的方向上逐渐升高。

在其中一个实施例中,所述颜色区与所述渐变区连接。

在其中一个实施例中,所述黑色层为多个,多个所述黑色层依次层叠设置在所述非黑色层远离所述基材的一侧,每个所述黑色层在所述渐变区处的黑色的深度的渐变方式相同。

在其中一个实施例中,所述渐变区为多个,多个所述渐变区间隔设置。

在其中一个实施例中,所述渐变区为两个,其中一个所述渐变区围绕另一个所述渐变区设置。

在其中一个实施例中,所述色带单元还具有色带区,所述黑色层在所述色带区处的黑色的深度恒定,所述色带区位于两个所述渐变区之间。

在其中一个实施例中,还包括膜材和纹理层,所述膜材覆盖所述黑色层远离所述非黑色层的一侧,所述纹理层设置在所述膜材上,且位于所述膜材远离所述黑色层的一侧,所述纹理层在所述色带单元上的正投影覆盖所述渐变区。

在其中一个实施例中,所述纹理层具有多个平行的第一凸条和多个平行的第二凸条,多个所述第一凸条和多个所述第二凸条交替设置,每个所述第二凸条的高度小于每个所述第一凸条的高度。

在其中一个实施例中,相邻所述第一凸条和所述第二凸条拼接。

在其中一个实施例中,每个所述第一凸条在垂直于所述第一凸条的延伸方向上的截面的形状为三角形或者梯形;

及/或,每个所述第二凸条在垂直于所述第二凸条的延伸方向上的截面的形状为三角形或者梯形。

在其中一个实施例中,还包括反射单元,所述反射单元覆盖所述纹理层远离所述膜材的一侧。

在其中一个实施例中,还包括油墨层,所述油墨层覆盖所述反射单元远离所述纹理层的一侧。

一种膜层结构的制备方法,包括如下步骤:

在基材上形成非黑色层;及

在所述非黑色层上形成黑色层,所述黑色层位于所述非黑色层远离所述基材的一侧,形成色带单元,所述色带单元具有渐变区,所述黑色层在所述渐变区处的黑色的深度渐变,得到膜层结构。

在其中一个实施例中,所述在所述基材上形成非黑色层的步骤包括:采用色带热转印工艺在所述基材上形成所述非黑色层;

及/或,所述在所述非黑色层上形成黑色层的步骤包括:采用色带热转印工艺在所述非黑色层上形成所述黑色层。

在其中一个实施例中,所述在所述非黑色层上形成黑色层的步骤之后,还包括如下步骤:在所述色带单元远离所述基材的一侧上设置依次层叠的膜材和纹理层,并使所述膜材覆盖所述黑色层远离所述非黑色层的一侧,且使所述纹理层在所述色带单元上的正投影覆盖所述渐变区。

在其中一个实施例中,所述在所述色带单元远离所述基材的一侧上设置依次层叠的膜材和纹理层的步骤包括:

在所述膜材的一侧形成纹理层;及

将所述膜材远离所述纹理层的一侧与所述色带单元远离所述基材的一侧贴合。

在其中一个实施例中,在所述膜材上形成所述纹理层的步骤包括:在所述膜材上形成多个平行的第一凸条和多个平行的第二凸条,得到所述纹理层,多个所述第一凸条和多个所述第二凸条交替设置,所述第二凸条的高度小于所述第一凸条的高度。

一种壳体机构,包括:

基底;及

上述膜层结构或者上述膜层结构的制备方法制备得到的膜层结构,所述膜层结构设置在所述基底上,且所述基材靠近所述基底设置。

一种电子设备,包括:

上述壳体机构,

显示机构,与所述壳体机构连接,所述显示机构和所述壳体机构之间限定出安装空间;及

电路板,设置在所述安装空间内且与所述显示机构电连接。

附图说明

图1为一实施方式的电子设备的结构示意图;

图2为图1所示的壳体机构的结构示意图;

图3为图2所示的壳体机构沿II-II线的截面示意图;

图4为图3所示的壳体机构中色带单元的截面示意图;

图5为图3所示的壳体机构中基材的截面示意图;

图6为图3所示的壳体机构中膜材的截面示意图;

图7为图3所示的壳体机构中纹理层的结构示意图;

图8为图7所示的纹理层沿A-A线的截面示意图;

图9为图3所示的壳体机构中反射单元的截面示意图;

图10为另一实施方式的壳体机构的纹理层的截面示意图;

图11为另一实施方式的壳体机构的纹理层的结构示意图;

图12为图11所示的纹理层沿B-B线的截面示意图;

图13为另一实施方式的壳体机构的反射单元的截面示意图;

图14为壳体机构在部分色带区和环绕色带区的渐变区处的局部实物图;

图15为壳体机构在颜色区、与颜色区连接的渐变区和部分色带区处的实物图。

具体实施方式

为了便于理解本发明,下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是,本发明可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施例。相反地,提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本发明。

以下实施方式中,如未特别说明,色带浓度即为打印点的个数的百分比。需要说明的是,根据色带浓度和色带的分辨率能够计算打印密度。色带的分辨率指每英寸色带所表达的像素数目。打印密度即打印精度,表示在每英寸可打印的点数。具体地,色带浓度乘以色带的分辨率得到打印密度。例如,色带浓度为100%,色带的分辨率为600DPI,则打印密度为600DPI。

如图1所示,一实施方式的电子设备包括壳体机构10和显示机构20。显示机构20与壳体机构10连接。电子设备正常运行时,显示机构20能够显示图案。显示机构20与壳体机构10之间限定出安装空间(图未示)。电子设备还包括电路板(图未示)。电路板控制电路能够控制电子设备正常运行。电路板设置在安装空间内,且与显示机构20电连接。

进一步地,电子设备为各种能够从外部获取数据并对该数据进行处理的设备,或者,各种内置有电池,并能够从外部获取电流对该电池进行充电的设备。电子设备例如可以为手机、平板电脑、计算设备或信息显示设备等。在图示实施例中,电子设备为手机。壳体机构10为手机的后盖。显示机构20与壳体机构10固接。

请参阅图2,壳体机构10包括基底10a。

基底10a为透明玻璃板。需要说明的是,基底10a不限于为透明玻璃板,也可以为透明塑料板。

在其中一个实施例中,基底10a的形状为条形。需要说明的是,基底10a的形状不限于为条形,也可以为其他形状,可以根据需要进行设置。

在其中一个实施例中,基底10a的厚度为0.5nm~0.7nm。

请结合参阅图3~4,壳体机构10还包括膜层结构100。膜层结构100设置在基底10a上。膜层结构100包括基材110和色带单元120。色带单元120包括非黑色层122和黑色层124。非黑色层122设置在基材110的一侧。黑色层124设置在非黑色层122远离基材110的一侧。色带单元120具有渐变区125。黑色层124在渐变区125处的黑色的深度渐变。

上述膜层结构100包括基材110和色带单元120,色带单元120使得膜层结构100具有颜色效果,色带单元120包括非黑色层122和黑色层124,非黑色层122设置在基材110上,使得膜层结构100具有非黑色的颜色效果,黑色层124设置在非黑色层122远离基材110的一侧,色带单元120具有渐变区125,黑色层124在渐变区125处的黑色的深度渐变,使得膜层结构100在渐变区125处呈现颜色渐变的效果,样式丰富。

在其中一个实施例中,基材110的形状为条形。进一步地,基材110的延伸方向与基底10a的延伸方向大致平行。需要说明的是,基材110的形状不限于为条形,也可以为其他形状,可以根据需要进行设置。

请参阅图5,在其中一个实施例中,基材110包括层叠设置的防爆层112和粘接层114。粘接层114使得基材110具有粘性,能够与其他部件粘接。进一步地,防爆层112为PET层。粘接层114的材料为OCA。需要说明的是,防爆层112不限于上述指出的材料,还可以为其他材料。粘接层114的材料不限于上述指出材料,也可以为其他材料。在一个具体示例中,基材110为条形。

在其中一个实施例中,防爆层112的厚度为21μm~25μm。粘接层114的厚度为15μm~25μm。进一步地,防爆层112的厚度为23μm。粘接层114的厚度为15μm。

在其中一个实施例中,色带单元120覆盖防爆层112远离粘接层114的一侧。进一步地,非黑色层122覆盖防爆层112远离粘接层114的一侧。更进一步地,色带单元120完全覆盖防爆层112远离粘接层114的一侧。在图示实施例中,非黑色层122与防爆层112远离粘接层114的一侧完全重合。需要说明的是,非黑色层122不限于与防爆层112远离粘接层114的一侧完全重合,非黑色层122也可以部分覆盖防爆层112远离粘接层114的一侧。此时,黑色层144可以完全覆盖非黑色层122,且覆盖防爆层112远离粘接层114的一侧。

非黑色层122的通透性较高,非黑色层122的透光率高于黑色层124,光线能够透过非黑色层122。在其中一个实施例中,非黑色层122的颜色为蓝色、绿色、红色、紫色或黄色。需要说明是的是,非黑色层122的颜色不限于上述指出的颜色,也可以为其他颜色。

在其中一个实施例中,非黑色层122由非黑色的色带形成。进一步地,形成非黑色层122的色带为CMYK色系的色带。C为Cyan(青色);M为Magenta(洋红色);Y为Yellow(黄色)黄色;K为黑色。此种设置使得非黑色层122具有较高的精细度和分辨率,使得膜层结构100具有细腻的颜色效果。分辨率即每英寸所表达的像素数目。具体地,形成非黑色层122的色带为日本富士CMYK色系的色带,分辨率为600DPI。需要说明的是,形成非黑色层122的色带不限于上述指出的色带,还可以为其他的色带,可以根据实际需要进行选择。

在其中一个实施例中,非黑色层122的颜色的深度恒定。进一步地,非黑色层122的色带浓度恒定。更进一步地,非黑色层122的色带浓度为100%。

在其中一个实施例中,非黑色层122为多个。多个非黑色层122依次层叠设置在基材110的一侧。进一步地,多个非黑色层122依次层叠设置在防爆层112远离粘接层114的一侧。更进一步地,每个非黑色层122的颜色的深度相同。具体地,每个非黑色层122的色带浓度相同。在图示实施例中,非黑色层122为七个。每个非黑色层122的颜色为蓝色。每个非黑色层122的色带浓度为100%。

黑色层124的透光率较低,具有遮光效果。黑色层124在渐变区125处的黑色的深度渐变。此种设置,使得膜层结构100在渐变区125具有渐变的颜色效果,并且使得黑色层124在渐变区125处的透光率渐变。需要说明的是,黑色的深度越高,透光率越低,黑色的深度越低,透光率越高。在图示实施例中,黑色层124与非黑色层122完全重合。需要说明的是,黑色层124与非黑色层122不限于完全重合,黑色层124也可以部分覆盖非黑色层122。

在其中一个实施例中,黑色层124由黑色的色带形成。进一步地,形成黑色层124的色带为CMYK色系的色带。此种设置使得黑色层124具有较高的精细度和分辨率,使得膜层结构100具有细腻的颜色效果。具体地,形成黑色层124的色带为日本富士CMYK色系的色带,分辨率为600DPI。需要说明的是,形成非黑色层122的色带不限于上述指出的色带,还可以为其他的色带,可以根据实际需要进行选择。

在其中一个实施例中,黑色层124在渐变区125处的黑色的深度由浅至深渐变。进一步地,黑色层124在渐变区125处的黑色的深度由浅至深线性渐变。此种设置使得黑色层124在渐变区125处的透光率由高到低线性渐变。更进一步地,黑色层124在渐变区125处的色带浓度由浅至深线性渐变,以使黑色层124在渐变区125处的黑色的深度由浅至深线性渐变。需要说明的是,色带浓度越高,黑色的深度越高,透光率越低;色带浓度越低,黑色的深度越低,透光率越高。

在其中一个实施例中,黑色层124在渐变区125处的黑色的深度自渐变区125的中部向边缘的方向逐渐升高。进一步地,黑色层124在渐变区125处的黑色的深度自渐变区125的中部向边缘的方向线性升高。更进一步地,渐变区125为环形。黑色层124在渐变区125处的黑色的深度自环内向环外的方向线性升高。此种设置使得膜层结构100在渐变区125呈现颜色渐变的环形区域。具体地,黑色层124在渐变区125处的色带浓度从0.1%线性升高至100%。需要说明的是,黑色层124在渐变区125处的色带浓度不限于从0.1%线性升高至100%,也可以为从10%升高至80%,还可以30%升高至90%,可以根据需要进行设置。

更具体地,渐变区125的宽度为3mm~10mm。需要说明的是,渐变区125的宽度不限于为3mm~10mm,可以根据需要进行设置。在一个具体示例中,渐变区125的宽度为3mm。需要说明的是,渐变区125的宽度不限于为3mm,也可以为4mm或者6mm,还可以为10mm。可以根据实际需要进行设置。需要说明的是,渐变区125的宽度越宽,色带浓度升高的幅度越慢,黑色的深度升高的幅度越慢,黑色层124在渐变区125处的透光率降低的幅度越快。

色带单元120还包括颜色区126。黑色层124在颜色区126处的黑色的深度恒定。进一步地,黑色层124在颜色区126处的黑色的深度大于或者等于黑色层124在渐变区125处的黑色的深度的最大值。此种设置使得黑色层124在颜色区126处和渐变区125处具有不同的颜色效果和不同的透光率。更进一步地,黑色层124在颜色区126处的色带浓度恒定。黑色层124在颜色区126处的色带浓度大于或者等于黑色层124在渐变区125处的色带浓度的最大值。

渐变区125围绕颜色区126设置。黑色层124在渐变区125处的黑色的深度自渐变区125远离颜色区126的方向上逐渐升高。进一步地,颜色区126与渐变区125连接。在图示实施例中,颜色区126为条形。渐变区125环绕颜色区126。黑色层124在颜色区126处的色带浓度为100%。需要说明的是,黑色区在颜色区126处的色带浓度不限于为100%,也可以为80%或者90%等,可以根据实际需要进行设置。

在其中一个实施例中,渐变区125为多个。多个渐变区125间隔设置。此种设置,使得壳体机构10的不同区域具有颜色渐变的效果。进一步地,渐变区125为两个,其中一个渐变区125围绕另一个渐变区125设置。更进一步地,色带单元120具有色带区128。色带区128位于两个渐变区125之间。具体地,色带区128围绕其中一个渐变区125设置。更具体地,色带区128为环形。色带区128环绕其中一个渐变区125设置。

在其中一个实施例中,色带区128与渐变区125连接。更进一步地,色带区128与相邻渐变区125均连接。

在其中一个实施例中,黑色层124在色带区128处的黑色的深度恒定。进一步地,黑色层124在色带区128处的色带浓度恒定。更进一步地,黑色层124在色带区128处的色带浓度大于或等于黑色层124在渐变区125处的色带浓度的最大值。此种设置使得黑色层124在色带区128和渐变区125具有不同的颜色效果和不同的透光率。具体地,黑色层124在色带区128处的色带浓度为90%~100%。更具体地,黑色层124在色带区128处的色带浓度为100%。

在其中一个实施例中,黑色层124为多个。多个黑色层124依次层叠设置在非黑色层122远离基材110的一侧。每个黑色层124在渐变区125处的黑色的深度的渐变方式相同。进一步地,每个黑色层124中,渐变区125为两个。两个渐变区125间隔设置。其中一个渐变区125围绕另一个渐变区125设置。两个渐变区125均为环状。黑色层124在两个渐变区125处的色带浓度均自环内向环外的方向线性升高,且黑色层124在两个渐变区125处的色带浓度均从0%线性升高至100%。其中一个渐变区125环绕颜色区126设置,且与颜色区126无间隔连接。色带区128为一个。色带区128为环状。色带区128位于两个渐变区125之间,且与两个渐变区125均连接。更进一步地,两个渐变区125的宽度不同。此种设置使得两个渐变区125的色带浓度升高幅度不同,使得膜层结构100在两个渐变区125呈现不同的渐变效果。

在图示实施例中,黑色层124为两个。每层黑色层124中,在颜色区126的色带浓度为100%。在色带区128的色带浓度为100%。与颜色区126连接的渐变区125的宽度为3mm;在此渐变区125上与颜色区126的边缘的距离为0~2mm处,黑色层124的色带浓度在颜色区126靠近色带区128的方向上从0.1%线性升高至20%;在此渐变区125上与颜色区126的边缘的距离为2mm~3mm处,黑色层124的色带浓度在颜色区126靠近色带区128上的方向从20%线性升高至100%。环绕色带区128的渐变区125的宽度为6mm;在此渐变区125上与色带区128的边缘的距离为0~4mm处,黑色层124的色带浓度在颜色区126靠近色带区128的方向上从0.1%线性升高至40%;在此渐变区125上与色带区128的边缘的距离为4mm~6mm处,黑色层124的色带浓度在颜色区126靠近色带区128的方向上从40%线性升高至100%。

需要说明的是,黑色层124在渐变区125的色带浓度的变化方式不限于上述指出的方式,也可以为其他线性变化方式,可以根据需要进行设置。

膜层结构100还包括膜材130和纹理层140。膜材130覆盖黑色层124远离非黑色层122的一侧。纹理层140设置在膜材130上,且位于膜材130远离黑色层124的一侧。纹理层140在色带单元120上的正投影覆盖渐变区125。

膜材130能够增加膜层结构100的机械性能。纹理层140具有增亮效果,纹理层140在色带单元120上的正投影覆盖渐变区125,使得膜层结构100在纹理层140在色带单元120上的正投影与渐变区125的叠加处呈现发亮的效果,且亮度渐变,使得膜层结构100的样式丰富,外观表现力较好。

在其中一个实施例中,膜材130的形状为条形。进一步地,膜材130的延伸方向与基底10a的延伸方向大致平行。需要说明的是,膜材130的形状不限于为条形,也可以为其他形状,可以根据需要进行设置。

请参阅图6,在其中一个实施例中,膜材130包括依次层叠设置的功能层132和胶粘层134。胶粘层134覆盖黑色层124远离非黑色层122的一侧。功能层132设置在胶粘层134远离色带单元120的一侧。进一步地,功能层132为PET(Polyethylene terephthalate,聚对苯二甲酸类塑料)层。胶粘层134的材料为OCA(Optically Clear Adhesive,光学胶)。需要说明的是,功能层132不限于上述指出的材料,还可以为其他材料。胶粘层134的材料不限于上述指出材料,也可以为其他材料。在图示实施例中,膜材130为条形板状。进一步地,膜材130的延伸方向与基材110的延伸方向平行。

在其中一个实施例中,功能层132的厚度为48μm~52μm。胶粘层134的厚度为20μm~30μm。进一步地,功能层132的厚度为50μm。胶粘层134的厚度为25μm。

纹理层140具有折射效果和图案效果,使得膜层结构100呈现发亮的效果。

在其中一个实施例中,纹理层140在色带单元120上的正投影完全覆盖渐变区125。此种设置,使得膜层结构100在整个渐变区125均具有发亮的效果。需要说明的是,黑色层124在渐变区125的色带浓度越高,黑色层124在渐变区125的透光率越低,膜层结构100在渐变区125处的亮度越低;黑色层124在渐变区125的色带浓度越低,黑色层124在渐变区125的透光率越高,膜层结构100在渐变区125处的亮度越高。

进一步地,渐变区125为多个时,纹理层140在色带单元120上的正投影覆盖多个渐变区125。此种设置使得膜层结构100在每个渐变区125处均具有较高的亮度,呈现发亮的效果。需要说明的是,黑色层124在每个渐变区125处的透光率的变化幅度不同,呈现的发亮效果也不同。更进一步地,纹理层140在色带单元120上的正投影完全覆盖色带单元120远离基材110的一侧。此种设置对色带单元120的各个区域均增亮效果,由于黑色层124在颜色区126处的透光率、黑色层124在色带区128处的透光率均小于或等于黑色层124在渐变区125处的最小透光率,使得膜层结构100在渐变区125处的平均亮度大于膜层结构100在颜色区126处和色带区128处的亮度,使得膜层结构100呈现颜色渐变、且局部发亮的效果。

在图示实施例中,纹理层140完全覆盖膜材130远离色带单元120的一侧。色带单元120在纹理层140的正投影与纹理层140完全重合。由于渐变区125为环形,使得膜层结构100具有环形的发亮区域的效果。

请结合参阅图7~8,纹理层140具有多个平行的第一凸条142和多个平行的第二凸条144。多个第一凸条142和多个第二凸条144交替设置。每个第二凸条144的高度小于每个第一凸条142的高度。第二凸条144和第一凸条142的高度差使得第二凸条144和第一凸条142对光有不同的折射效果和不同的增亮效果。在变换视觉角度时,第二凸条144和第一凸条142的高度差能实现不同亮度的视觉效果,对比度高,能够更好地衬托局部发亮的效果。

在其中一个实施例中,相邻第一凸条142和第二凸条144拼接。此种设置使得第一凸条142和第二凸条144之间无间隔,能够增加纹理层140的增亮效果,增加纹理层140在色带单元120上的正投影和渐变区125的叠加处的亮度,还能够增加纹理层140与膜材130的结合力。

在其中一个实施例中,每个第一凸条142在垂直于第一凸条142的延伸方向上的截面的形状为三角形。进一步地,每个第一凸条142在垂直于第一凸条142的延伸方向上的截面的形状为等腰三角形。此种设置,使得纹理层140具有深度感,增亮效果好。更进一步地,每个第一凸条142在垂直于第一凸条142的延伸方向上的截面的形状为等边三角形。

在其中一个实施例中,每个第二凸条144在垂直于第二凸条144的延伸方向上的截面的形状为三角形。进一步地,每个第二凸条144在垂直于第二凸条144的延伸方向上的截面的形状为等腰三角形。此种设置,使得纹理层140具有深度感,增亮效果好。更进一步地,每个第二凸条144在垂直于第二凸条144的延伸方向上的截面的形状为等边三角形。

在其中一个实施例中,第一凸条142和第二凸条144的高度差为2μm~4μm。第一凸条142的高度即为第一凸条142远离膜材130的一侧到功能层132远离胶粘层134一侧的距离。定义第一凸条142的高度为H1。第二凸条144的高度即为第二凸条144远离膜材130的一侧到功能层132远离胶粘层134一侧的距离。定义第二凸条144的高度为H2。进一步地,H1为8μm~10μm。H2为5μm~7μm。

在其中一个实施例中,第一凸条142的宽度与第二凸条144的宽度相等。此种设置,使得纹理层140能够呈现较为均一的纹理效果。定义第一凸条142的宽度为D1。定义第二凸条144的宽度为D2。进一步地,D1为6μm~10μm。D2为6μm~10μm。

在其中一个实施例中,每个第一凸条142为三棱柱形。每个第一凸条142的一个侧面朝向膜材130。每个第二凸条144为三棱柱形。每个第二凸条144的一个侧面朝向膜材130。在图示实施例中,每个第一凸条142具有第一侧面142a和两个第二侧面142b。第一侧面142a朝向膜材130。两个第二侧面142b与第一侧面142a形成的夹角相等。第一凸条142与第二凸条144平行。每个第二凸条144具有第三侧面144a和两个第四侧面144b。第三侧面144a朝向膜材130。两个第四侧面144b与第三侧面144a形成的夹角相等。两个第二侧面142b的相交线到第一侧面142a的距离大于两个第四侧面144b的相交线到第三侧面144a的距离。

此种设置能够通过第一凸条142和第二凸条144的高度差以提高对光线的反射,提高纹理层140的增亮效果,增加理层140在色带单元120上的正投影和渐变区125的叠加处的亮度。

两个第二侧面142b的相交线到第一侧面142a的距离即为H1。两个第四侧面144b的相交线到第三侧面144a的距离即为H2。进一步地。H1大于H2。H1和H2的差值为2μm~4μm。此种设置提高纹理层140的增亮效果。在其中一个实施例中,第一侧面142a的宽度与第三侧面144a的宽度相等。第一侧面142a的宽度即为D1。第三侧面144a的宽度即为D2。

定义第一凸条142的延伸方向与膜材130的延伸方向的夹角为A1。在其中一个实施例中,A1为85°~95°。此种设置,使得从大致垂直于膜材130的延伸方向的角度观察纹理层140的亮度更高。在图示实施例中,A1为90°。需要说明的是,A1不限于为上述指出角度范围,也可以其他角度,可以根据实际需要进行设置。

在其中一个实施例中,通过UV转印工艺在膜材130上形成纹理层140。进一步地,使用具有光固化性能的UV胶(Ultraviolet Rays),将特制模具上的纹理转印至第一基材110上,以在第一基材110上形成纹理层140。

请结合参阅图3和图9,在其中一个实施例中,膜层结构100还包括反射单元150。反射单元150覆盖纹理层140远离膜材130的一侧。反射单元150具有增亮效果,能够增加膜层结构100的亮度。进一步地,反射单元150完全覆盖纹理层140远离膜材130的一侧。更进一步地,反射单元150与纹理层140完全重合。需要说明的是,反射单元150不限于与纹理层140完全重合,反射单元150也可以部分覆盖纹理层140,反射单元150还可以完全覆盖纹理层140且部分覆盖膜材130。

在其中一个实施例中,反射单元150包括附着层151、第一折射层153和第二折射层155。附着层151设置在纹理层140远离膜材130的一侧,第一折射层153设置在附着层151远离纹理层140的一侧,第二折射层155设置在第一折射层153远离附着层151的一侧。第二折射层155的折射率大于第一折射层153的折射率。

通过设置附着层151使得反射单元150能够与纹理层140牢固地结合,第一折射层153和第二折射层155的结合,使得反射单元150具有反射效果,以将光线反射至膜材130上,以增加膜层结构100的亮度。

在其中一个实施例中,第一折射层153的折射率为0.68~0.72。第二折射层155的折射率为2.55~2.76。此种设置有利于提高反射单元150对光线的反射,提高第一膜层组件100的亮度。进一步地,第一折射层153为铟层。第二折射层155为二氧化钛层、五氧化三钛层或五氧化二铌层。此种设置使得反射单元150具有较好的反射效果,增亮效果好。

在其中一个实施例中,附着层151为氧化铝层或二氧化硅层。此种设置有利于提高反射单元150的附着力,保证膜层结构100的稳定性。

在其中一个实施例中,反射单元150还包括间隔层157。间隔层157设置在第一折射层153和第二折射层155之间。间隔层157为氧化铝层或二氧化硅层。间隔层157与附着层151结合能够保护第一折射层153,降低第一折射层153的氧化。

进一步地,附着层151为氧化铝层,附着层151的厚度为30nm~40nm。第一折射层153为铟层,第一折射层153的厚度为10nm~30nm。间隔层157为氧化铝层,间隔层157的厚度为30nm~40nm。第二折射层155为二氧化钛层,第二折射层155的厚度为3nm~7nm。需要说明的是,第一折射层153的厚度越厚,反射单元150的反射效果越好,增亮效果越好。但是第一折射层153的厚度越厚,越容易被氧化。上述设置的第一折射层153能够保证反射单元150的增亮效果,也能够降低第一折射层153的氧化。

进一步地,第一折射层153的厚度为10nm~20nm。此种设置能够保证反射单元150的增亮效果,也能够保护第一折射层153,降低第一折射层153的氧化。

在其中一个实施例中,通过电子蒸镀方式在纹理层140上形成反射单元150。需要说明的是,在纹理层140上形成反射单元150的方式不限于为上述指出的方式,还可以为其他镀膜方式,例如磁控溅射。

请再次参阅图3,在其中一个实施例中,膜层结构100还包括油墨层160。油墨层160覆盖反射单元150远离纹理层140的一侧。油墨层160具有遮蔽作用,并且能够避免进入膜层结构100的光线从油墨层160穿过,以而使纹理层140显现。进一步地,油墨层160完全覆盖反射单元150远离纹理层140的一侧。更进一步地,油墨层160与反射单元150完全重合。需要说明的是,油墨层160不限于与反射单元150完全重合,油墨层160也可以部分覆盖反射单元150。

在其中一个实施例中,油墨层160的厚度为5μm~24μm。此种设置,能够有效地避免光线穿过油墨层160,使得进入膜层结构100内的光线能够被反射单元150反射或者被油墨层160吸收。

在其中一个实施例中,采用丝网印刷工艺在纹理层140上形成油墨层160。进一步地,采用丝网印刷工艺在纹理层140上多次印刷油墨材料而得到油墨层160。具体地,印刷的次数为三次。每次印刷的厚度为5μm~8μm。需要说明的是,印刷的次数不限于三次,也可以为两次,还可以为四次,可以根据需要进行设定。其中,油墨材料为低温油墨。低温油墨即在较低温度下能够干燥的油墨。进一步地,干燥温度为80℃~90℃。

上述壳体机构10的膜层结构100包括基材110和色带单元120,色带单元120使得膜层结构100具有颜色效果,色带单元120包括非黑色层122和黑色层124,非黑色层122设置在基材110上,使得膜层结构100具有非黑色的颜色效果,黑色层124设置在非黑色层122远离基材110的一侧,色带单元120具有渐变区125,黑色层124在渐变区125处的黑色的深度渐变,使得膜层结构100在渐变区125处呈现颜色渐变的效果,样式丰富。

进一步地,上述壳体机构10的膜层结构100还包括膜材130和纹理层140,膜材130能够增加膜层结构100的机械性能,纹理层140具有增亮效果,纹理层140在色带单元120上的正投影覆盖渐变区125,使得膜层结构100在纹理层140在色带单元120上的正投影与渐变区125的叠加处呈现发亮的效果,且亮度渐变,使得膜层结构100的样式丰富,外观表现力较好。

再者,上述壳体机构10的膜层结构100中,色带单元120还包括颜色区126和色带区128,由于黑色层124在颜色区126处的色带浓度、黑色层124在色带区128处的色带浓度均大于黑色层124在渐变区125处的最大色带浓度,使得膜层结构100具有不同的颜色效果,外观效果丰富,外观表现力较好。进一步地,颜色区126和色带区128的设置,使得黑色层124在颜色区126处的透光率、黑色层124在色带区128处的透光率均小于或者等于黑色层124在渐变区125处的最小透光率,使得膜层结构100在渐变区125处的平均亮度大于膜层结构100在颜色区126处和色带区128处的亮度,使得膜层结构100呈现颜色渐变、且局部发亮的效果;并且,由于渐变区125为环形,使得膜层结构100呈现环形的发亮区域的效果。

上述壳体机构10的膜层结构100中,纹理层140具有增亮效果,色带单元120的分辨率较高,色带单元120和纹理层140的叠加使得膜层结构100具有颜色、发亮且分辨率较高的效果,样式效果丰富,外观效果较好。

综上,上述壳体机构10包括具有颜色渐变、发亮的效果的膜层结构100,外观效果较好,膜层结构100的厚度较薄,使得壳体机构10能够用于制备具有较好外观效果的电子设备,例如适用于3D弧度低于4.0mm的手机后盖。

可以理解,色带区128不限于为一个,也可以为多个。此时,多个色带区128与多个渐变区125交替设置,以使每个色带区128位于相邻渐变区125之间。

可以理解,黑色层124在渐变区125处的黑色的深度不限于由浅至深线渐变,也可以由深至浅渐变,还可以先由浅至深线渐变再由深至浅渐变。

可以理解,黑色层124在渐变区125处的黑色的深度不限于自环内向环外的方向线性升高,也可以自环内向环外的方向线性降低。

可以理解,渐变区125不限为多个,也可以为一个。当渐变区125为一个时,渐变区125环绕颜色区126设置,色带区128环绕渐变区125设置。可以理解,渐变区125为一个时,色带区128可以省略。

可以理解,渐变区125的形状不限于为环形,也可以为条形或者圆形,可以根据需要进行设置。此时,颜色区126可以与渐变区125连接,也可以不连接,可以根据需要进行设置。渐变区125的形状为条形时,黑色层124在渐变区125处的黑色的深度不限于自渐变区125的中部向边缘的方向逐渐升高,也可以自渐变区125的一端向另一端的方向逐渐降低或者逐渐增加,还可以为黑色层124在渐变区125处的色带浓度自渐变区125的一侧向另一侧的方向逐渐降低或者逐渐增加。渐变区125的形状为圆形时,黑色层124在渐变区125处的色带浓度自渐变区125的中心向渐变区125的边缘的方向逐渐降低或者逐渐增加。

可以理解,颜色区126和色带区128均可以省略。此时,色带单元120远离基材110的一侧均为渐变区125,纹理层140在色带单元120上的正投影与色带单元120完全重合。

可以理解,纹理层140在色带单元120上的正投影不限于完全覆盖渐变区125。纹理层140在色带单元120上的正投影也可以与渐变区125完全重和;此时,纹理层140对渐变区125有增亮效果。纹理层140在色带单元120上的正投影还可以位于渐变区125内;此时,纹理层140对部分渐变区125有增亮效果。

可以理解,第一凸条142和第二凸条144不限于为三棱柱形,第一凸条142和第二凸条144也可以为其他形状,例如:折线形、波浪线形或者圆弧形等。

可以理解,每个第一凸条142在垂直于第一凸条142的延伸方向上的截面的形状不限于为三角形,每个第二凸条144在垂直于第二凸条144上的截面的形状不限于为三角形,请参阅图10,另一实施方式的壳体机构与上述实施方式的壳体机构10大致相同,不同之处在于,第一凸条242在垂直于第一凸条242的延伸方向上的截面的形状为梯形,第二凸条244在垂直于第二凸条244上的截面的形状为梯形。每个第一凸条242的高度为H1’。每个第二凸条244的高度为H3’。每个第一凸条242的宽度为D1’。每个第二凸条244的宽度为D2’。H1’为8μm~10μm。H2’为5μm~7μm。D1’为6μm~10μm。D2’为6μm~10μm。

在图示实施例中,第一凸条242在垂直于第一凸条242的延伸方向上的截面的形状为等腰梯形,第二凸条244在垂直于第二凸条244上的截面的形状为等腰梯形。

可以理解,相邻第一凸条142和第二凸条144不限于无间隙设置,相邻第一凸条142和第二凸条144也可以间隔设置。

可以理解,纹理层140不限于上述设置,还可以为其他设置方式,例如:请结合参阅图11~12,另一实施方式的壳体机构与上述实施方式的壳体机构10大致相同,不同之处在于,纹理层340具有多个凸条组340a。每个凸条组340a包括平行且拼接的第一凸条342和第二凸条344。每个第一凸条342的高度大于第二凸条344的高度。第一凸条342和第二凸条344的结构与第一凸条142和第二凸条144的结构相同,具体详见上文,此处不再赘述。

在其中一个实施例中,多个凸条组340a间隔设置。且每个凸条组340a的第一凸条342平行。在图示实施例中,多个凸条组340a也可以呈矩阵排列。

进一步地,每个凸条组340a中的第一凸条342和第二凸条344均为多个,多个第一凸条342和多个第二凸条344交替设置。需要说明的是,每个凸条组340a中的第一凸条342和第二凸条344可以均为两个,也可以均为三个,可以根据需要进行设置。需要说明的是,每个凸条组340a中的第一凸条342和第二凸条344的个数可以相等,也可以不相等,可以根据需要进行设置。

上述纹理层340的设置能够使膜层结构呈现发亮的效果,与色带单元配合使得膜层结构具有颜色、发亮且分辨率较高的效果,外观效果较好。

可以理解,多个凸条组340a不限于为上述设置方式,还可以为其他设置方式,例如:多个凸条组340a沿垂直于第一凸条342的延伸方向间隔设置。

可以理解,反射单元150的结构不限于上述指出的结构,还可以为其他结构,请参阅图13,另一实施方式的壳体机构与上述实施方式的壳体机构10大致相同,不同之处在于,反射单元250与反射单元150的结构大致相同,不同之处在于,反射单元250还包括第三折射层259。第三折射层259位于附着层251和第一折射层253之间。第三折射层259的折射率大于第一折射层253的折射率。此种设置通过第三折射层259、第一折射层253和第二折射层155的配合,能够进一步提高反射单元250的增亮效果。进一步地,第三折射层259的折射率为2.55~2.76。更进一步地,第三折射层259为二氧化钛层、五氧化三钛层或五氧化二铌层。

在其中一个实施例中,反射单元250还包括第一保护层252和第二保护层254。第一保护层252位于第一折射层253与第三折射层259之间。第二保护层254位于第一折射层253与第二折射层155之间。第一保护层252为氧化铝层或二氧化硅层。第二保护层254为氧化铝层或二氧化硅层。通过设置第一保护层252和第二保护层254能够保护第一折射层253,能够降低第一折射层253的氧化,还能够增加反射单元250的机械强度。

进一步地,附着层251为二氧化硅层,附着层251的厚度为8nm~12nm。第三折射层259为五氧化三钛层,第三折射层259的厚度为7nm~17nm。第一保护层252为二氧化硅层,第一保护层252的厚度为10nm~20nm。第一折射层253为铟层,第一折射层253的厚度为10nm~20nm。第二保护层254为二氧化硅层,第二保护层254的厚度为20nm~30nm。第二折射层155为五氧化三钛层,第二折射层155的厚度为5nm~9nm。此种设置能够降低第一折射层253的氧化,增加反射单元250的机械强度。

可以理解,反射单元150可以省略。此时,油墨层160覆盖纹理层140。

可以理解,油墨层160可以省略。此时,可以从壳体机构10处观察到显示机构20和电路板的结构。

可以理解,膜材130、纹理层140、反射单元150和油墨层160均可以省略,此时,膜层结构100包括基材110和色带单元120,膜层结构100具有颜色渐变的效果。

请再次一并参阅图1~9,此外,上述实施方式的膜层结构100的制备方法,能够制备具有样式丰富的膜层结构100。具体地,膜层结构100的制备方法包括如下步骤S110~S120:

S110、在基材110上形成非黑色层122。

需要说明的是,基材110和非黑色层122的结构请参见上文描述,此处不再赘述。

在其中一个实施例中,在基材110上形成非黑色层122的步骤包括:采用色带热转印工艺在基材110上形成非黑色层122。进一步地,采用色带热转印工艺在基材110上形成非黑色层122的过程中,通过电脑程序控制在基材110上转印出相应颜色效果的非黑色层122。更进一步地,形成非黑色层122的色带为CMYK色系色带具体地,形成非黑色层122的色带为日本富士CMYK色系色带。该色带的分辨率为600DPI,精细度较高,有利于提高膜层结构100的外观效果。

需要说明的是,色带转印对环境要求较高,需要在百级环境内进行,以避免环境落尘而造成严重的白点和亮点等不良问题。

在其中一个实施例中,转印温度为60℃~70℃。每个非黑色层122的转印时间为2s~3s。

S120、在非黑色层122上形成黑色层124,黑色层124位于非黑色层122远离基材110的一侧,形成色带单元120,色带单元120具有渐变区125,黑色层124在渐变区125处的黑色的深度渐变,得到膜层结构100。

需要说明的是,黑色层124的结构请参见上文描述,此处不再赘述。

在其中一个实施例中,在非黑色层122上形成黑色层124的步骤包括:采用色带热转印工艺在非黑色层122上形成黑色层124。进一步地,采用色带热转印工艺在非黑色层122上形成黑色层124的过程中,通过计算机程序根据需要控制色带浓度转印出不同的颜色效果,得到具有不同颜色效果的区域的黑色层124。例如:通过计算机程序控制色带浓度呈梯度变化形成具有黑色的深度渐变的区域的黑色层124,以使色带单元120具有渐变区125;或者,通过计算机程序控制色带浓度恒定形成具有黑色的深度恒定的黑色层124,以使色带单元120具有色带区128或者颜色区126。需要说明的是,色带转印对环境要求较高,需要在百级环境内进行,以避免环境落尘而造成严重的白点和亮点等不良问题。

更进一步地,形成黑色层124的色带为CMYK色系色带。具体地,形成黑色层124的色带为日本富士CMYK色系色带。该色带的分辨率为600DPI,精细度较高,有利于提高膜层结构100的外观效果。

在其中一个实施例中,转印温度为60℃~70℃。每个黑色层124的转印时间为2s~3s。

在其中一个实施例中,在非黑色层122上形成黑色层124的步骤之后,还包括在色带单元120远离基材110的一侧上贴附保护膜的步骤。通过贴附保护膜能够对色带单元120起到临时保护的作用。

在其中一个实施例中,在非黑色层122上形成黑色层124的步骤之后,还包括如下步骤:在色带单元120远离基材110的一侧上设置依次层叠的膜材130和纹理层140,并使膜材130覆盖黑色层124远离非黑色层122的一侧,且使纹理层140在色带单元120上的正投影覆盖渐变区125。

需要说明的是,膜材130和纹理层140的具体结构详见上文,此处不再赘述。

进一步地,在色带单元120远离基材110的一侧上设置依次层叠的膜材130和纹理层140的步骤包括S130~S140:

S130、在膜材130上形成纹理层140。

在其中一个实施中,在膜材130上形成纹理层140的步骤包括:采用UV转印工艺在膜材130上形成纹理层140。进一步地,使用具有光固化性能的UV胶(Ultraviolet Rays),将特制模具上的纹理转印至膜材130上,以在膜材130上形成纹理层140。

需要说明的是,不限于在膜材130上形成纹理层140,也可以采用市售的形成有纹理层140的膜材130。更进一步地,UV转印的能量为500mj/cm2~1000mj/cm2

在其中一个实施中,在膜材130上形成纹理层140的步骤包括:在膜材130上形成多个平行的第一凸条142和多个平行的第二凸条144,得到纹理层140,多个第一凸条142和多个第二凸条144交替设置,第二凸条144的高度小于第一凸条142的高度。需要说明的是,第一凸条142和第二凸条144的具体结构详见上文,此处不再赘述。

进一步地,在膜材130上形成纹理层140的步骤包括S131~S132:

S131、提供具有纹理图案的模具,纹理图案具有多个平行的第一凸起和多个平行的第二凸起,多个第一凸起与多个第二凸起交替设置。纹理图案能够与纹理层140相互啮合。

需要说明的是,可以通过具有不同纹理图案的模具制备不同结构的纹理层。

在其中一个实施例中,S131包括S1311~S1312:

S1311、制备具有纹理的母模,母模的纹理与纹理层140的纹理相同。

具体地,采用CNC机台,以6个刀同时加工的方式在滚轮上进行加工,得到具有纹理的母模。

S1312、将母模的纹理复制到模具上,形成纹理图案,得到具有纹理图案的模具。

其中,模具为PC板(聚碳酸酯板)。

进一步地,将母模的纹理复制到模具上的方式为Roll to Roll。Roll to Roll即:将滚轮圆周表面上的纹理直接压印在模具的表面。

S132、在具有纹理图案的模具上涂覆UV胶,以使UV胶位于相邻第一凸起和第二凸起之间,将模具上的UV胶转印至膜材130上,固化,得到纹理层140。

进一步地,UV转印的能量为500mj/cm2~1000mj/cm2

在其中一个实施例中,在膜材130上形成纹理层140的步骤之后,还包括在纹理层140上形成反射单元150的步骤。进一步地,在纹理层140上形成反射单元150的电子蒸镀或者溅射。

具体地,在纹理层140上形成反射单元150的步骤包括:在纹理层140上形成依次层叠的附着层151、第一折射层153和第二折射层155,得到反射单元150。第一折射层153的折射率小于第二折射层155的折射率。通过设置附着层151使得反射单元150能够与纹理层140牢固地结合,第一折射层153和第二折射层155的结合,使得反射单元150具有反射效果,以将光线反射至膜材130上,具有增亮效果。进一步地,通过电子蒸镀工艺在纹理层140上形成依次层叠的附着层151、第一折射层153和第二折射层155,形成反射单元150。

在其中一个实施例中,第一折射层153的折射率为0.68~0.72。第二折射层155的折射率为2.55~2.76。进一步地,第一折射层153为铟层。第二折射层155为二氧化钛层、五氧化三钛或五氧化二铌层。此种设置使得反射单元150具有较好的反射效果。

在其中一个实施例中,附着层151为氧化铝层或二氧化硅层。

在其中一个实施例中,在纹理层140上形成反射单元150的步骤包括:在纹理层140上形成依次层叠的附着层151、第一折射层153、间隔层157和第二折射层155,得到反射单元150。间隔层157为氧化铝层或二氧化硅层。间隔层157与附着层151结合能够保护第一折射层153,降低第一折射层153的氧化。进一步地,通过电子蒸镀方式在纹理层140上形成依次层叠的附着层151、第一折射层153、间隔层157和第二折射层155,形成反射单元150。

具体地,附着层151为氧化铝层,附着层151的厚度为30nm~40nm。第一折射层153为铟层,第一折射层153的厚度为10nm~30nm。间隔层157为氧化铝层,间隔层157的厚度为30nm~40nm。第二折射层155为二氧化钛层,第二折射层155的厚度为3nm~7nm。需要说明的是,第一折射层153的厚度越厚,反射单元150的反射效果越好,纹理层140的亮度越高。但是第一折射层153的厚度越厚,越容易被氧化。上述设置的第一折射层153能够保证反射单元150的增亮效果,也能够降低第一折射层153的氧化。

进一步地,第一折射层153的厚度为10nm~20nm。此种设置能够保证反射单元150的增亮效果,也能够保护第一折射层153,降低第一折射层153的氧化。

在其中一个实施例中,在纹理层140上形成反射单元150的步骤之后,还包括在反射单元150上形成油墨层160的步骤。进一步地,在反射单元150上形成油墨层160的方式为丝网印刷。更进一步地,油墨层160的厚度为5μm~24μm。

进一步地,采用丝网印刷工艺在纹理层140上多次印刷油墨材料而得到油墨层160。具体地,印刷的次数为三次。每次印刷的厚度为5μm~8μm。需要说明的是,印刷的次数不限于三次,也可以为两次,还可以为四次,可以根据需要进行设定。其中,油墨材料为低温油墨。低温油墨即在较低温度下能够干燥的油墨。进一步地,干燥温度为80℃~90℃。

在其中一个实施例中,在膜材130上形成依次层叠的纹理层140、反射单元150和油墨层160的步骤之后,还包括在油墨层160远离反射单元150的一侧贴附保护膜的步骤。通过贴附保护膜以对油墨层160起临时保护的作用。

S140、将膜材130远离纹理层140的一侧与色带单元120远离基材110的一侧贴合。

具体地,将胶粘层134与最远离基材110的黑色层124贴合。

在其中一个实施例中,基材110设有第一对准部。膜材130设有与第一对准部相对应的第二对准部。S140包括:将第一对准部与第二对准部相对,并且将色带单元120与膜材130贴合,以使渐变区125在纹理层140上的正投影落在纹理层140上。通过设置第一对准部和第二对准部,使得黑色层124的渐变区125能够与纹理层140精准对位,以使纹理层140在色带单元120上的正投影能够覆盖渐变区125。

上述膜层结构100的制备方法通过色带转印工艺在基材110上形成色带单元120,色带单元120使得膜层结构100具有颜色效果,色带单元120包括非黑色层122和黑色层124,非黑色层122设置在基材110上,使得膜层结构100具有非黑色的颜色效果,黑色层124设置在非黑色层122远离基材110的一侧,色带单元120具有渐变区125,黑色层124在渐变区125处的黑色的深度渐变,使得膜层结构100在渐变区125处呈现颜色渐变的效果,样式丰富。

进一步地,上述膜层结构100的制备方法通过在膜材130上形成纹理层140,将膜材130与色带单元120贴合,使得渐变区125在纹理层140上的正投影能够落在纹理层140上,使得膜层结构100在纹理层140在色带单元120上的正投影与渐变区125的叠加处呈现发亮的效果,且亮度渐变,使得膜层结构100的样式丰富,外观表现力较好。

一般的胶印工艺主要的流程为:四色胶印(即凹版印刷)直接在膜片上打印出深浅不同的蓝色区域;再进行UV转印形成纹理;在纹理上进行电子枪蒸发镀膜,形成硅钛增亮膜系;在硅钛增亮膜系上进行丝网印刷,得到油墨层160。然而,采用胶印工艺形成图案的粗糙度较高,细腻度较差,且单层胶印方案对UV纹理的设计有局限性,UV纹理的深度不能太深(不能超过10μm),镀膜后的颜色效果不好,亮度不足。

上述膜层结构100的制备方法中,通过在膜材130上形成纹理层140,使得能够根据需要设置纹理层140,并且通过将形成有色带单元120的基材110和形成有纹理层140的膜材130的贴合,能够提高膜层结构100的颜色饱满感,色带转印工艺制备的色带单元120的分辨率较高,精细度较好,纹理层140与膜材130的结合力较好,能够通过不同宽度和高度的纹理使得膜层结构100呈现不同的增亮效果。

综上,上述膜层结构100的制备方法得到的膜层结构100呈现具有渐变颜色且亮度渐变的效果,得到的膜层结构100能够用于制备具有较好外观效果的电子设备,例如适用于3D弧度低于4.0mm的手机后盖。

可以理解,胶粘层134也可以省略。通过在功能层132上涂覆粘接剂,以将色带单元120与膜材130贴合。

可以理解,每个第一凸条142在垂直于第一凸条142的延伸方向上的截面的形状不限于为三角形,每个第二凸条144在垂直于第二凸条144上的截面的形状不限于为三角形,请参阅图10,另一实施方式的壳体机构与上述实施方式的壳体机构10大致相同,不同之处在于,第一凸条242在垂直于第一凸条242的延伸方向上的截面的形状为梯形,第二凸条244在垂直于第二凸条244上的截面的形状为梯形。每个第一凸条242的高度为H1’。每个第二凸条244的高度为H3’。每个第一凸条242的宽度为D1’。每个第二凸条244的宽度为D2’。H1’为8μm~10μm。H2’为5μm~7μm。D1’为6μm~10μm。D2’为6μm~10μm。

在图示实施例中,第一凸条242在垂直于第一凸条242的延伸方向上的截面的形状为等腰梯形,第二凸条244在垂直于第二凸条244上的截面的形状为等腰梯形。

可以理解,相邻第一凸条142和第二凸条144不限于无间隙设置,相邻第一凸条142和第二凸条144也可以间隔设置。

可以理解,纹理层140不限于上述设置,还可以为其他设置方式,例如:请参阅图11~12,另一实施方式的壳体机构与上述实施方式的壳体机构10大致相同,不同之处在于,纹理层340具有多个凸条组340a。每个凸条组340a包括平行且拼接的第一凸条342和第二凸条344。每个第一凸条342的高度大于第二凸条344的高度。第一凸条342和第二凸条344的结构与第一凸条142和第二凸条144的结构相同,具体详见上文,此处不再赘述。

在其中一个实施例中,多个凸条组340a间隔设置。且每个凸条组340a的第一凸条342平行。在图示实施例中,多个凸条组340a也可以呈矩阵排列。

进一步地,每个凸条组340a中的第一凸条342和第二凸条344均为多个,多个第一凸条342和多个第二凸条344交替设置。需要说明的是,每个凸条组340a中的第一凸条342和第二凸条344可以均为两个,也可以均为三个,可以根据需要进行设置。需要说明的是,每个凸条组340a中的第一凸条342和第二凸条344的个数可以相等,也可以不相等,可以根据需要进行设置。

上述纹理层340的设置能够使膜层结构呈现发亮的效果,与色带单元配合使得膜层结构具有颜色、发亮且分辨率较高的效果,外观效果较好。

可以理解,多个凸条组340a不限于为上述设置方式,还可以为其他设置方式,例如:多个凸条组340a沿垂直于第一凸条342的延伸方向间隔设置。

可以理解,形成反射单元150的方式不限于上述方式,请参阅图13,另一实施方式的壳体机构与上述实施方式的壳体机构10大致相同,不同之处在于,在纹理层上形成反射单元250的步骤包括:在纹理层上形成依次层叠的附着层251、第三折射层259、第一折射层253和第二折射层255,得到反射单元250。第三折射层259的折射率大于第一折射层253的折射率。此种设置中,通过第三折射层259、第一折射层253和第二折射层255的配合,能够进一步提高反射单元250的增亮效果。进一步地,第三折射层259的折射率为2.55~2.76。更进一步地,第三折射层259为二氧化钛层、五氧化三钛层或五氧化二铌层。

进一步地,在纹理层上形成依次层叠的附着层251、第三折射层259、第一折射层253和第二折射层255,得到反射单元250的步骤包括:在纹理层140上形成依次层叠的附着层251、第三折射层259、第一保护层252、第一折射层253、第二保护层254和第二折射层255。第一保护层252为氧化铝层或二氧化硅层。第二保护层254为氧化铝层或二氧化硅层。通过设置第一保护层252和第二保护层254能够保护第一折射层253,以降低第一折射层253的氧化,还能够增加反射单元250的机械强度。

具体地,附着层251为二氧化硅层,附着层251的厚度为8nm~12nm。第三折射层259为五氧化三钛层,第三折射层259的厚度为7nm~17nm。第一保护层252为二氧化硅层,第一保护层252的厚度为10nm~20nm。第一折射层253为铟层,第一折射层253的厚度为10nm~20nm。第二保护层254为二氧化硅层,第二保护层254的厚度为20nm~30nm。第二折射层255为五氧化三钛层,第二折射层255的厚度为5nm~9nm。此种设置能够降低第一折射层253的氧化,增加反射单元250的机械强度。

此外,还提供一实施方式的壳体机构10的制备方法,能够制备外观效果较好的壳体机构10。壳体机构10的制备方法包括如下步骤:将基底10a与膜层结构100贴合,以使基材110与基底10a相对,得到壳体机构10。

进一步地,将附在粘接层114上的保护膜撕除,将基底10a贴合在粘接层114,得到壳体机构10。

在其中一个实施例中,将基底10a与膜层结构100贴合的步骤之后,还包括对贴合有膜层结构100的基底10a进行脱泡处理。进一步地,脱泡处理的方式为真空脱泡。更进一步地,脱泡温度为45℃~55℃。压力为7kg~12kg。脱泡时间为30min~50min。具体地,脱泡时间为40min。

在其中一个实施例中,对贴合有膜层结构100的基底10a进行脱泡处理的步骤之后,还包括如下步骤:切割贴合有膜层结构100的基底10a。通过切割得到所需大小的壳体机构10。进一步地,切割的方式为镭射。更进一步地,将一个贴合有膜层结构100的基底10a制成6~8个壳体机构10。需要说明的是,不限于将一个贴合有膜层结构100的基底10a制成6~8个壳体机构10,也可以将一个贴合有膜层结构100的基底10a制成1个壳体机构10,还可以将一个贴合有膜层结构100的基底10a制成10个壳体机构10,可以根据需要进行设置。

以下为具体实施例部分:

如无特别说明,以下实施例中,油墨层的油墨材料为市售的PET低温油墨,干燥温度为80℃~90℃。色带转印工艺中所用的色带为日本富士CMYK色系色带。按照上文中S131~S132的操作,通过UV转印工艺在功能层远离胶粘层的一侧上形成纹理层。非黑色层的色带浓度为100%,非黑色层均为蓝色。

实施例1

本实施例的壳体机构的结构如图1~9所示,其制备过程如下:

(1)基材为TP23E0防爆膜(购于SKC公司)。基材包括依次层叠设置的防爆层和粘接层。防爆层的材料为PET。防爆层的厚度为21μm。粘接层的厚度为15μm。通过色带转印工艺在防爆层上形成七层依次层叠的非黑色层,通过色带转印工艺在最远离基材的非黑色层上形成两层依次层叠的黑色层,形成色带单元。每层黑色层中,在颜色区的色带浓度为100%。在色带区的色带浓度为100%。与颜色区连接的渐变区的宽度为3mm;在此渐变区上与颜色区的边缘的距离为0~2mm处,黑色层的色带浓度在颜色区靠近色带区的方向上从0%升高至20%;在此渐变区上与颜色区的边缘的距离为2mm~3mm处,黑色层的色带浓度在颜色区靠近色带区的方向上从20%线性升高至100%。环绕色带区的渐变区的宽度为6mm;在此渐变区上与色带区的边缘的距离为0~4mm处,黑色层的色带浓度在颜色区靠近色带区的方向上从0%升高至40%;在此渐变区上与色带区的边缘的距离为4mm~6mm处,黑色层的色带浓度在颜色区靠近色带区的方向上从40%升高至100%。转印温度为60℃。每个非黑色层的转印时间为2s。每个黑色层的转印时间为2s。

(2)膜材为HP12防爆膜(购于SKC公司)。膜材包括依次层叠设置的功能层和胶粘层。功能层的材料为PET。功能层的厚度为48μm。胶粘层的材料为OCA。胶粘层的厚度为20μm。通过UV转印工艺在功能层远离胶粘层的一侧上形成纹理层。A1为85°。D1为6μm。D2为6μm。H1为8μm。H2为6μm。UV转印的能量为500mj/cm2

(3)采用电子蒸镀工艺在纹理层上形成依次层叠的附着层、第一折射层、间隔层和第二折射层,得到反射单元。附着层为氧化铝层,附着层的厚度为30nm。第一折射层为铟层,第一折射层的厚度为10nm。间隔层为氧化铝层,间隔层的厚度为30nm。第二折射层为二氧化钛层,第二折射层的厚度为3nm。

(4)采用丝网印刷工艺在第二折射层上印刷油墨材料,形成油墨层。印刷的次数为三次。每次印刷的厚度为5μm。

(5)将色带单元与胶粘层贴合,以使纹理层在色带单元上的正投影与色带单元完全重合,得到膜层结构。

(6)将基底与粘接层贴合,真空脱泡处理,镭射切割,得到壳体机构。基底为透明玻璃基底。基底的厚度为0.5nm。脱泡温度为45℃。压力为7kg。脱泡时间为30min。

实施例2

本实施例的壳体机构的结构与实施例1大致相同,不同之处在于:壳体机构的各尺寸不同。本实施例的壳体机构的制备过程如下:

(1)基材为TP23E0防爆膜(购于SKC公司)。基材包括依次层叠设置的防爆层和粘接层。防爆层的材料为PET。防爆层的厚度为25μm。粘接层的厚度为25μm。通过色带转印工艺在防爆层上形成七层依次层叠的非黑色层,通过色带转印工艺在最远离基材的非黑色层上形成两层依次层叠的黑色层,形成色带单元。每层黑色层中,在颜色区的色带浓度为100%。在色带区的色带浓度为100%。与颜色区连接的渐变区的宽度为3mm;在此渐变区上与颜色区的边缘的距离为0~2mm处,黑色层的色带浓度在颜色区靠近色带区的方向上从0.1%线性升高至20%;在此渐变区上与颜色区的边缘的距离为2mm~3mm处,黑色层的色带浓度在颜色区靠近色带区的方向上从20%线性升高至100%。环绕色带区的渐变区的宽度为6mm;在此渐变区上与色带区的边缘的距离为0~4mm处,黑色层的色带浓度在颜色区靠近色带区的方向上从0.1%线性升高至40%;在此渐变区上与色带区的边缘的距离为4mm~6mm处,黑色层的色带浓度在颜色区靠近色带区的方向上从40%线性升高至100%。转印温度为70℃。每个非黑色层的转印时间为3s。每个黑色层的转印时间为3s。

(2)膜材为HP12防爆膜(购于SKC公司)。膜材包括依次层叠设置的功能层和胶粘层。功能层的材料为PET。功能层的厚度为52μm。胶粘层的材料为OCA。胶粘层的厚度为30μm。通过UV转印工艺在功能层远离胶粘层的一侧上形成纹理层。A1为95°。D1为10μm。D2为10μm。H1为10μm。H2为6μm。UV转印的能量为1000mj/cm2

(3)采用电子蒸镀工艺在纹理层上形成依次层叠的附着层、第一折射层、间隔层和第二折射层,得到反射单元。附着层为氧化铝层,附着层的厚度为40nm。第一折射层为铟层,第一折射层的厚度为30nm。间隔层为氧化铝层,间隔层的厚度为40nm。第二折射层为二氧化钛层,第二折射层的厚度为7nm。

(4)采用丝网印刷工艺在第二折射层上印刷油墨材料,形成油墨层。印刷的次数为三次。每次印刷的厚度为5μm。

(5)将色带单元与胶粘层贴合,以使纹理层在色带单元上的正投影与色带单元完全重合,得到膜层结构。

(6)将基底与粘接层贴合,真空脱泡处理,镭射切割,得到壳体机构。基底为透明玻璃基底。基底的厚度为0.7nm。脱泡温度为55℃。压力为12kg。脱泡时间为50min。

实施例3

本实施例的壳体机构的结构与实施例1大致相同,不同之处在于:壳体机构的各尺寸不同。本实施例的壳体机构的制备过程如下:

(1)基材为TP23E0防爆膜(购于SKC公司)。基材包括依次层叠设置的防爆层和粘接层。防爆层的材料为PET。防爆层的厚度为23μm。粘接层的厚度为15μm。通过色带转印工艺在防爆层上形成七层依次层叠的非黑色层,通过色带转印工艺在最远离基材的非黑色层上形成两层依次层叠的黑色层,形成色带单元。每层黑色层中,在颜色区的色带浓度为100%。在色带区的色带浓度为100%。与颜色区连接的渐变区的宽度为3mm;在此渐变区上与颜色区的边缘的距离为0~2mm处,黑色层的色带浓度在颜色区靠近色带区的方向上从0.1%线性升高至20%;在此渐变区上与颜色区的边缘的距离为2mm~3mm处,黑色层的色带浓度在颜色区靠近色带区的方向上从20%线性升高至100%。环绕色带区的渐变区的宽度为6mm;在此渐变区上与色带区的边缘的距离为0~4mm处,黑色层的色带浓度在颜色区靠近色带区的方向上从0.1%线性升高至40%;在此渐变区上与色带区的边缘的距离为4mm~6mm处,黑色层的色带浓度在颜色区靠近色带区的方向上从40%线性升高至100%。转印温度为65℃。每个非黑色层的转印时间为3s。每个黑色层的转印时间为2s。

(2)膜材为HP12防爆膜(购于SKC公司)。膜材包括依次层叠设置的功能层和胶粘层。功能层的材料为PET。功能层的厚度为50μm。胶粘层的材料为OCA。胶粘层的厚度为25μm。通过UV转印工艺在功能层远离胶粘层的一侧上形成纹理层。A1为90°。D1为8μm。D2为8μm。H1为9μm。H2为6μm。UV转印的能量为700mj/cm2

(3)采用电子蒸镀工艺在纹理层上形成依次层叠的附着层、第一折射层、间隔层和第二折射层,得到反射单元。附着层为氧化铝层,附着层的厚度为35nm。第一折射层为铟层,第一折射层的厚度为10nm。间隔层为氧化铝层,间隔层的厚度为35nm。第二折射层为二氧化钛层,第二折射层的厚度为5nm。

(4)采用丝网印刷工艺在第二折射层上印刷油墨材料,形成油墨层。印刷的次数为三次。每次印刷的厚度为5μm。

(5)将色带单元与胶粘层贴合,以使纹理层在色带单元上的正投影与色带单元完全重合,得到膜层结构。

(6)将基底与粘接层贴合,真空脱泡处理,镭射切割,得到壳体机构。基底为透明玻璃基底。基底的厚度为0.6nm。脱泡温度为50℃。压力为9kg。脱泡时间为40min。

经制备,得到实施例3的壳体机构的实物图如图14~15所示。图14表示壳体机构在部分色带区和环绕色带区的渐变区处的局部实物图。图14中,箭头(14-1)所指区域为环绕色带区的渐变区,箭头(14-2)所指区域为色带区。图15表示壳体机构在颜色区、与颜色区连接的渐变区和部分色带区处的实物图。图15中,箭头(15-1)所指区域为颜色区,箭头(15-2)所指区域为与颜色区连接的渐变区,箭头(15-3)所指区域为色带区。

从图14~15可以看出,壳体机构在色带区处呈深蓝色,壳体机构在环绕色带区的渐变区处呈蓝色渐变效果,且壳体机构在环绕色带区的渐变区处有发亮效果。壳体机构在颜色区和色带区处均呈深蓝色,壳体机构在与颜色区连接的渐变区呈蓝色渐变效果,并且壳体机构在与颜色区连接的渐变区具有较高的亮度,呈现环形发亮区域。

实施例4

本实施例的壳体机构如图1~8、图13所示,本实施例的壳体组件的制备过程与实施例1大致相同,不同之处在于:

步骤(2)中,H1为8μm。H2为5μm。

步骤(3)为:采用电子蒸镀工艺在纹理层上形成依次层叠的附着层、第三折射层、第一保护层、第一折射层、第二保护层和第二折射层,得到反射单元。附着层为二氧化硅层,附着层的厚度为8nm。第三折射层为五氧化三钛层,第三折射层的厚度为7nm。第一保护层为二氧化硅层,第一保护层的厚度为10nm。第一折射层为铟层,第一折射层的厚度为10nm~20nm。第二保护层为二氧化硅层,第二保护层的厚度为20nm。第二折射层为五氧化三钛层,第二折射层的厚度为5nm。

实施例5

本实施例的壳体机构的结构与实施例4大致相同,不同之处在于:壳体机构的各尺寸不同。本实施例的壳体组件的制备过程与实施例2大致相同,不同之处在于:

步骤(2)中,H1为10μm。H2为7μm。

步骤(3)为:采用电子蒸镀工艺在纹理层上形成依次层叠的附着层、第三折射层、第一保护层、第一折射层、第二保护层和第二折射层,得到反射单元。附着层为二氧化硅层,附着层的厚度为12nm。第三折射层为五氧化三钛层,第三折射层的厚度为17nm。第一保护层为二氧化硅层,第一保护层的厚度为20nm。第一折射层为铟层,第一折射层的厚度为20nm。第二保护层为二氧化硅层,第二保护层的厚度为30nm。第二折射层为五氧化三钛层,第二折射层的厚度为9nm。

实施例6

本实施例的壳体机构的结构与实施例4大致相同,不同之处在于:壳体机构的各尺寸不同。本实施例的壳体组件的制备过程与实施例3大致相同,不同之处在于:

步骤(2)中,H1为9μm。H2为6μm。

步骤(3)为:采用电子蒸镀工艺在纹理层上形成依次层叠的附着层、第三折射层、第一保护层、第一折射层、第二保护层和第二折射层,得到反射单元。附着层为二氧化硅层,附着层的厚度为10nm。第三折射层为五氧化三钛层,第三折射层的厚度为12nm。第一保护层为二氧化硅层,第一保护层的厚度为15nm。第一折射层为铟层,第一折射层的厚度为15nm。第二保护层为二氧化硅层,第二保护层的厚度为25nm。第二折射层为五氧化三钛层,第二折射层的厚度为7nm。

实施例7

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例1大致相同,不同之处在于,H1为8μm。H2为7μm。

实施例8

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例6大致相同,不同之处在于,H1为10μm。H2为5μm。

实施例9

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例1大致相同,不同之处在于,D1为4μm。D2为4μm。

实施例10

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例2大致相同,不同之处在于,D1为12μm。D2为12μm。

实施例11

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例1大致相同,不同之处在于,第一折射层的厚度为5nm。

实施例12

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例2大致相同,不同之处在于,第一折射层的厚度为35nm。

实施例13

本实施例的壳体机构的结构与实施例3的大致相同,不同之处在于,第一凸条、第二凸条的结构如图10所示,第一凸条在垂直于第一凸条的延伸方向的截面的形状为等腰梯形,第二凸条在垂直于第二凸条的延伸方向的截面的形状为等腰梯形,D1’为8μm。H1’为9μm。D2’为8μm。H2’为6μm。

实施例14

本实施例的壳体机构的制备过程与实施例3大致相同,不同之处在于,通过胶印工艺在基材上形成非黑色层和黑色层,将最远离非黑色层的黑色层与胶粘层贴合上。其中,胶印工艺中所用的油墨为市售的进口胶印类油墨。

测试:

测定实施例1~14的壳体机构在颜色区处、在与颜色区连接的渐变区处、在环绕色带区的渐变区处的亮度和分辨率。测定实施例1~14的壳体机构中纹理层与膜材的拉拔力。测定结果详见表1。表1表示的是实施例1~14的壳体机构在颜色区处、靠近颜色区的渐变区处、色带区处、环绕色带区的渐变区处的亮度和分辨率、壳体机构中纹理层与膜材的拉拔力。

其中,采用色差仪测定壳体组件中基底远离膜层结构的一侧在垂直于膜材的延伸方向上的亮度(即L);

分辨率指每英寸所表达的像素数目;

采用拉拔力检测仪测定拉拔力。

需要说明的是,由于黑色层在颜色区处的色带浓度与黑色层在色带区处的色带浓度相同,并且非黑色层在各区域的色带浓度均为100%,故壳体机构在颜色区处的亮度与壳体机构在颜色区处的亮度相同,且壳体机构在颜色区处的分辨率与壳体机构在颜色区处的分辨率相同。

表1

表1中,渐变区的亮度为X1~X2,表示渐变区的最大亮度为X2,最小亮度为X1,渐变区的亮度在第一方向上从X2渐变至X1,其中,第一方向为从颜色区靠近色带区的方向。例如:与颜色区连接的渐变区的亮度为40~90,表示此渐变区的亮度在第一方向上从90渐变至40。又例如:环绕色带区的渐变区的亮度为40~90,表示此渐变区的亮度在第一方向上从90渐变至40。

从表1可以看出,实施例1~14中,与颜色区连接的渐变区的亮度的最大值为95,亮度的最小值为30,且与颜色区连接的渐变区的亮度在第一方向上呈渐变效果,说明上述实施方式的壳体机构在基底远离膜层结构的一侧呈现亮度渐变的效果,具有自发光的效果。与环绕色带区的渐变区的亮度的最大值为95,亮度的最小值为30,且与环绕色带区的渐变区的亮度在第一方向上呈渐变效果,说明上述实施方式的壳体机构在基底远离膜层结构的一侧呈现亮度渐变的效果。实施例1~14的壳体机构的纹理层与膜材的拉拔力大于16N,说明上述实施方式的壳体机构中纹理层与膜材的结合力较好,不会因纹理层脱落或者移位而影响壳体机构的外观效果。实施例1~13的壳体机构中基底远离膜层结构的一侧的分辨率为600DPI,高于实施例14(300DPI),说明上述实施方式的壳体机构中基底远离膜层结构的一侧的分辨率较高,颜色效果更加细腻。。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对高德娱乐注册范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本高德娱乐注册的保护范围应以所附权利要求为准。

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